新潟大学 地域創生推進機構

シーズ集

TEL:025-262-7554 FAX:025-262-7513
E-mail:onestop@adm.niigata-u.ac.jp

平成29年度技術講演会「プラズマプロセス技術の多様性と未来」開催のお知らせ

内 容

現在の便利な生活に欠かすことのできないパソコンやスマートフォンに内蔵される半導体は、プラズマプロセスによって製造されます。そのプラズマの最先端の研究成果を基に、プラズマプロセス技術の多様性とその未来展望を紹介します。

講 師

榊田 創 氏
産業技術総合研究所 先進プラズマプロセスグループ長

日 時

平成29年11月9日(木)16:25~17:45

会 場

新潟大学 総合研究棟物質生産系161演習室
(キャンパスマップ N6)

定 員

100名

参加費

無 料

主催/後援

主催:公益財団法人新潟工学振興会
後援:日本金属学会、日本鉄鋼協会北陸信越支部講演会・新潟市地区電気学会東京支部新潟支所講演会、新潟大学地域創生推進機構、新潟大学産学連携協力会

お問合せ・お申込み先

TEL:025-262-7344
FAX:025-262-7550
Mail:seminar[AT]ccr.niigata-u.ac.jp ← [AT]を半角”@”に書き換えて下さい
※聴講希望の方は事前にお申し込みください。
(聴講希望講演名、御芳名、御所属・役職をメールまたはFAXにてお送りください)