平成29年度技術講演会「プラズマプロセス技術の多様性と未来」開催のお知らせ
2017.11.09 更新
内 容
現在の便利な生活に欠かすことのできないパソコンやスマートフォンに内蔵される半導体は、プラズマプロセスによって製造されます。そのプラズマの最先端の研究成果を基に、プラズマプロセス技術の多様性とその未来展望を紹介します。
講 師
榊田 創 氏
産業技術総合研究所 先進プラズマプロセスグループ長
日 時
平成29年11月9日（木）16:25～17:45
会 場
新潟大学 総合研究棟物質生産系１６１演習室
（キャンパスマップ Ｎ6）
定 員
100名
参加費
無 料
主催／後援
主催：公益財団法人新潟工学振興会
後援：日本金属学会、日本鉄鋼協会北陸信越支部講演会・新潟市地区電気学会東京支部新潟支所講演会、新潟大学地域創生推進機構、新潟大学産学連携協力会
お問合せ・お申込み先
TEL：025-262-7344
FAX：025-262-7550
Mail：seminar[AT]ccr.niigata-u.ac.jp ← [AT]を半角”@”に書き換えて下さい
※聴講希望の方は事前にお申し込みください。
（聴講希望講演名、御芳名、御所属・役職をメールまたはFAXにてお送りください）
